キーワード-ＣＶＤ

内容
※電気化学の庵／ナレッジ／ナレッジ^ⅰ) ケミカル・ベーパー・デポジションの略。化学蒸着のこと。原料ガスを種々の方法で活性化して基材表面に目的とする析出物を作るドライプロセスです¹⁾。活性化の方法として熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどがあります。表面のコーティングや膜の作成に使われます。物理蒸着法はＰＶＤといいます。 (1) ドライプロセス表面技術協会, 表面処理工学　基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).
(ⅰ) データベースアメニティ研究所,Ｃ１ラボラトリー,電気化学の庵,ＣＶＤ,3863,(2005).

内容

ケミカル・ベーパー・デポジションの略。化学蒸着のこと。原料ガスを種々の方法で活性化して基材表面に目的とする析出物を作るドライプロセスです¹⁾。活性化の方法として熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどがあります。表面のコーティングや膜の作成に使われます。物理蒸着法はＰＶＤといいます。

(1) ドライプロセス
表面技術協会, 表面処理工学　基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).

参考書籍…山形大学附属図書館
(1) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).
(2) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).
(3) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).
(4) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).
(5) , The MOCVD challenge, Hilger, (c1989).
(6) edited by Toivo T. Kodas and Mark J. Hampden-Smith, The chemistry of metal CVD, VCH, (c1994).

参考書籍…山形大学附属図書館

(1) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).

(2) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).

(3) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).

(4) 化学工学会編集, CVDハンドブック, 朝倉書店, (1991.6).

(5) , The MOCVD challenge, Hilger, (c1989).

(6) edited by Toivo T. Kodas and Mark J. Hampden-Smith, The chemistry of metal CVD, VCH, (c1994).

ページレビュー^※
シボレスページレビュー…／一覧

ページレビュー^※