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製作年月日:7/14 製作者:中谷基 研磨条件:3M ラッピングフィルムシート (粒度;#2000、#4000、#8000、#10000) Al2O3粉末(粒度;0.3μm、0.05μm) 電析条件:0.4 厚み=0.2μ ガルバノスタット=北斗電工製 HA-151 プログラム=佐藤昌則製作 N88BASICプログラム 電流密度=200A/m2 実際に流した電流=14μA 温度=25℃ 酸化条件: 電気炉=(株)入江商会 MIR-3 温度=650℃ 時間=2時間45分 炭酸塩除去処理 水の量=100ml 温度=25℃ 浸漬時間=約2時間 評価方法:CV keyword ⇒ではじまり;で終わるまでの句を直接引用します。⇒#156@化学種;などのように指定します。