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仁科辰夫教授　最終講義　２０２３．３．１７　米沢キャンパス中示Ａ
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説明
ケミカル・ベーパー・デポジションの略。化学蒸着のこと。原料ガスを種々の方法で活性化して基材表面に目的とする析出物を作るドライプロセスです1)。活性化の方法として熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどがあります。表面のコーティングや膜の作成に使われます。物理蒸着法はＰＶＤといいます。
(1) ドライプロセス
表面技術協会, 表面処理工学　基礎と応用, 日刊工業新聞社, (2000).