ドライプロセス

ドライプロセスの基礎
・スパッタリング
ドライプロセスの特徴
ドライプロセスの種類と発展
物理蒸着法（ＰＶＤ）
化学蒸着（ＣＶＤ）
溶融成膜法
ドライプロセス表面改質法
ドライプロセス表面加工法
ドライプロセスの工程と制御

表面処理工学　基礎と応用（目次）¹⁾

【関連講義】
無機工業化学,ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）¹⁾
無機工業化学,食品、包装、バイオ（２００８）²⁾

【関連書籍】表面技術入門³⁾

【測定装置】20130419検討中には、高真空蒸着装置(JFE-4X,日本電子)を用いた⁴⁾。

無機工業 > ２００８ > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花　和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).

無機工業 > ２００８ > 食品、包装、バイオ（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花　和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).

高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).

無機工業 > ２００８ > ケイ素製錬、ガラス、セメント、セラミックス、窯業（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花　和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2008).

無機工業 > ２００８ > 食品、包装、バイオ（２００８）,２００８年（Ｈ２０年度）―無機工業化学
立花　和宏,無機工業化学, 講義ノート, (2009).

高真空蒸着装置
,JFE-4X,,(日本電子,).

表面処理工学　基礎と応用¹⁾